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化學氣相沉積法制備“碳化硅-碳” 復合材料

型號:VCF-120-21

MoS2生長設備

關鍵字:CVD

型號:VTL1200-100＆250

可倒料CVD系統

型號:TL1200-Ⅲ-CVD

1200度氫氣管式爐CVD系統

關鍵字:氫氣管式爐 CVD

型號:TL1200-H

1200度單溫區miniCVD系統

關鍵字:單溫區 CVD

型號:TL1200-S-CVD

1200度單溫區CVD系統

關鍵字:單溫區 CVD

型號:TL1200-C

1200度單溫區滑竿式CVD系統

關鍵字:滑竿式 PECVD

型號:TL1200-H-C

1200度單溫區四通道可調真空滑動管式爐

關鍵字:四通道 真空可調

型號:TL1200

1200度預加熱滑竿式CVD系統

關鍵字:預加熱 CVD

型號:TL1200-S-C

1200度雙溫區CVD系統

關鍵字:多溫區 CVD

型號:TL1200-1200-C

1200度雙溫區滑竿式CVD系統

關鍵字:滑竿式 PECVD

型號:TL1200-1200-H-C

1200度三溫區可調真空CVD系統

型號:TL1200-1200-1200-CVD

1400度單溫區CVD系統

關鍵字:單溫區 CVD

型號:TL1400-C

1700度立式CVD系統

關鍵字:立式爐 CVD

型號:VTL1700-CVD

1700度單溫區CVD系統

關鍵字:單溫區 CVD

型號:TL1700-C

1700度雙溫區CVD系統

關鍵字:雙溫區 CVD

型號:TL1700-1700-C

1700度-1400度 雙溫區CVD系統

型號:TL1700-1400-C

4英寸石墨烯晶圓生長設備

關鍵字:真空穩壓 感應加熱

型號:SP-4VIM

6英寸石墨烯晶圓生長設備

關鍵字:真空穩壓 感應加熱

型號:SP-6VIM

2100℃ CVD系統

關鍵字:石墨加熱 擴散泵

型號:VCF-48-21CVD

8英寸石墨烯晶圓生長設備

關鍵字:感應加熱 真空穩壓

型號:SP-8VIM